1. 前のページに戻る

革新的次世代デバイスを目指す材料とプロセス

研究領域

戦略的な研究開発の推進 戦略的創造研究推進事業 さきがけ

研究総括 佐藤 勝昭  東京農工大学, 理事/教育担当副学長
研究期間 (年度) 2007 – 2012
概要この研究領域は、CMOSに代表される既存のシリコンデバイスを超える革新的な次世代デバイスを創成することを目標として、環境やエネルギー消費に配慮しつつ高速・大容量かつ高度な情報処理・情報蓄積・情報伝達を可能とする新しい材料の開拓およびプロセスの開発を図る挑戦的な研究を対象とするものです。 具体的には、高移動度ワイドギャップ半導体材料、スピントロニクス材料、高温超伝導体を含む強相関系材料、量子ドット材料、ナノカーボン材料、有機半導体材料などが挙げられますが、これらに限らず、将来のデバイス化を見据えた新しい材料または構造及びプロセスの開拓に向けた独創的な研究が含まれます。

報告書

(6件)
  • 2020 追跡評価書 ( PDF )   追跡評価用資料 ( PDF )
  • 2012 事後評価書 ( PDF )   事後評価結果(課題毎) ( PDF )
  • 2011 事後評価結果(課題毎) ( PDF )
  • 2010 事後評価結果(課題毎) ( PDF )

URL: 

JSTプロジェクトデータベース掲載開始日: 2016-04-26   JSTプロジェクトデータベース最終更新日: 2025-03-26  

サービス概要 よくある質問 利用規約

Powered by NII jst