「次世代半導体微細加工プロセス技術」に関する研究開発構想（プロジェクト型）

研究領域

プログラムディレクター	湯本潤司東京大学, 名誉教授
研究期間 (年度)	2025 – 2029 (予定)
概要	本構想では、現在、半導体関連企業が共通して認識している技術課題の延長線上には無いような、最先端のEUV（Extreme Ultra Violet）露光技術を超える全く新しい技術や、半導体製造以外の用途の可能性を開拓することも視野に、革新的なレーザー技術・ミラー作成技術の開発、及びその周辺技術の高度化を図り、よりエネルギー効率が高く省エネ・省スペースを実現する技術を獲得することを目指す。また、実用化に向けた要素技術の検討などの企業導入に向けた方策の検討を進める。