スパッタ法によるZnO系透明導電膜の実用化技術の研究

研究課題

研究責任者	道上修岩手大学, 工学部, 教授
研究期間 (年度)	2005 – 2008
概要	低抵抗ZnO系透明導電膜形成技術をスパッタ法で実用化するものであり、この実用化技術は、高品質焼結ターゲット作製技術、不純物添加量の最適化技術、高品質低温スパッタ膜作製技術、ディスプレー用導電膜プロセス技術、透明発熱体製品化技術、ZnO用スパッタ装置技術等の基盤技術から構成される。それぞれの技術において、専門的な技術を所有しているメンバーが参加しており、材料から製品化まで一連の開発を分担すること、また、事業化の目的が明確であること、さらに、低抵抗ZnO薄膜の実現に、コンビナトリアルスパッタ法を適用し、n型不純物元素の添加量の最適化法が確立されつつあり、早期に良質ターゲット組成が見いだされる可能性があること等の特徴を有し、実用化(事業化)の達成度は高い。