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グラフェン・オン・シリコン材料・デバイス技術の開発
研究課題
戦略的な研究開発の推進
戦略的創造研究推進事業
CREST
体系的課題番号
JPMJCR0742
DOI
https://doi.org/10.52926/JPMJCR0742
研究代表者
尾辻 泰一
東北大学, 電気通信研究所, 教授
研究期間 (年度)
2007 – 2013
概要
グラフェン・オン・シリコン(GOS)材料・プロセス技術の開発を通し、相補的スイッチングデバイス(CGOS)及びプラズモン共鳴テラヘルツデバイス(PRGOS)技術の開発を行います。
研究領域
次世代エレクトロニクスデバイスの創出に資する革新材料・プロセス研究
報告書
(3件)
2013
終了報告書
(
PDF
)
2012
事後評価書
(
PDF
)
終了報告書
(
PDF
)