グラフェン・オン・シリコン材料・デバイス技術の開発

研究課題

体系的番号	JPMJCR0742
DOI	https://doi.org/10.52926/JPMJCR0742
研究代表者	尾辻泰一東北大学, 電気通信研究所, 教授
研究期間 (年度)	2007 – 2013
概要	グラフェン・オン・シリコン(GOS)材料・プロセス技術の開発を通し、相補的スイッチングデバイス(CGOS)及びプラズモン共鳴テラヘルツデバイス(PRGOS)技術の開発を行います。
研究領域	次世代エレクトロニクスデバイスの創出に資する革新材料・プロセス研究

報告書

(3件)