LSI用3次元カーボン・アクティブ配線の開発

研究課題

研究代表者	二瓶瑞久富士通株式会社, 電子デバイス事業本部, 統括部長付
研究期間 (年度)	2007 – 2009
概要	配線抵抗の増大、大電流密度による信頼性劣化を抑えるためにグラフェンを用いた微細配線技術、およびグローバル配線に求められるリピータ機能等を持つアクティブ配線技術の開発を行います。
研究領域	次世代エレクトロニクスデバイスの創出に資する革新材料・プロセス研究