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LSI用3次元カーボン・アクティブ配線の開発

研究課題

戦略的な研究開発の推進 戦略的創造研究推進事業 CREST

研究代表者

二瓶 瑞久  富士通株式会社, 電子デバイス事業本部, 統括部長付

研究期間 (年度) 2007 – 2009
概要配線抵抗の増大、大電流密度による信頼性劣化を抑えるためにグラフェンを用いた微細配線技術、およびグローバル配線に求められるリピータ機能等を持つアクティブ配線技術の開発を行います。
研究領域次世代エレクトロニクスデバイスの創出に資する革新材料・プロセス研究

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JSTプロジェクトデータベース掲載開始日 : 2016-04-26   JSTプロジェクトデータベース最終更新日 : 2018-08-27  

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