ゲルテンプレート法によるナノ多孔性シリカを用いた近赤外光遮蔽材

研究課題

研究代表者	車田研一横浜国立大学, 環境情報研究院/生産工学科共通コース, 助教授
研究期間 (年度)	2007
概要	ある種の有機物質は近赤外光(波長1000nm前後)を選択的に吸収するので、それらの有機物質を必要な部位に分散するのは近赤外光遮蔽には有効な方法である。そこで本計画ではそれらの有機光フィルター性物質を今後の発展的応用が期待される高空隙率ナノポーラスシリカのナノ孔へ安定に固定化(カプセル化)することをねらう。これにより製品ポットライフおよび安全なハンドリングが保証される。申請者らは従来までにナノ孔空隙率80%の多孔質シリカを簡便・安定に作製する方法を確立している。本計画では、全シリカ重量に対して10-20%の有機光フィルター性物質をナノ孔内に安定に格納する技術の確立を目的とする。