縦型マイクロチャンネルエピタキシーを利用した結晶基板作製技術の開発

研究課題

研究代表者	成塚重弥名城大学, 理工学部, 教授
研究期間 (年度)	2007
概要	「技術内容」:当研究室が提案する独創的な結晶成長技術であるマイクロチャンネルエピタキシーを縦型の結晶成長に展開し、結晶基板の作製を目指す。「目的」:薄膜の太陽電池用基板を安価で大量に供給できる結晶成長手法を開発する。「実施内容とその目標」:縦型マイクロチャンネルエピタキシー法を用い、選択成長マスクパターンを作製した基板上に、厚さ100 ミクロン程度の板状の結晶構造を配列的に成長する。この板状の結晶構造は、分離取り出すことにより、そのまま太陽電池用基板として使用できる。