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レーザー描画基礎技術の研究開発

研究課題

産学が連携した研究開発成果の展開 研究成果展開事業 平成20年度までに募集を終了した事業 独創的シーズ展開事業 大学発ベンチャー創出推進

研究代表者

須川 成利  東北大学, 教授

研究期間 (年度) 2005 – (非公開)
概要システムLSIを生産するに当たり最大の課題は、システムLSIのパターン形成に使用されるマスク製造時の描画に時間がかかるため、その価格が異常に高額なことである。本研究開発では、露光用マスクの製造技術において、従来の電子ビーム描画に替わり、レーザービームを用いて高速にパターンを描画できる基礎技術を開発する。描画時間の大幅な短縮により、我が国のエレクトロニクス産業用の戦略商品であるモバイル・デジタル家電などに必須な少量多品種製品の生産コストを下げ、市場の拡大や競争力の向上に大きく貢献できる。

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JSTプロジェクトデータベース掲載開始日: 2015-09-30   JSTプロジェクトデータベース最終更新日: 2023-01-10  

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