研究代表者 |
甲藤 正人 宮崎大学, 産学連携支援センター, 助教授
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| 研究期間 (年度) |
2007
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| 概要 | パルスレーザー堆積法は、ターゲットに高強度レーザーを照射することで、アブレーションと呼ばれる蒸散現象を誘起し、それにより蒸発したイオン、クラスター、原子等を対向に設置した基板上に堆積させることで被膜を生成する方法である。本研究課題においては、ハイドロキシアパタイト膜のを成膜する際の条件として、ターゲット・レーザーのパラメータ、ならびに成膜を行う際の雰囲気を最適化することで、被膜が自己組織化し高品質な被膜を得る技術の確立とその物理的過程を明らかにする。
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