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InN系窒化物ナノデバイス/ナノプロセスの分子線エピタキシ法による新展開

研究課題

戦略的な研究開発の推進 戦略的創造研究推進事業 CREST

体系的番号 JPMJCR02BA
DOI https://doi.org/10.52926/JPMJCR02BA

研究代表者

吉川 明彦  千葉大学, 電子光情報基盤技術研究センター, センター長(工学部教授)

研究期間 (年度) 2002 – 2007
概要最近、InNのバンドキャップが約0.63eVであり、窒化物系半導体は光通信波長領域までもカバーしうることが明らかにされました。本研究では、InNをベースとした窒化物系材料の「超薄膜・超急峻界面制御」分子線エピタキシ法ナノプロセス技術を開発します。これにより、InN系ナノ構造本来の物性を発現させ、近未来の大容量・超高速画像環境情報を支える、光通信波長域レーザ、超高速光制御素子、そして超高速・超省電力電子素子開発の可能性を検討します。
研究領域超高速・超省電力高性能ナノデバイス・システムの創製

報告書

(2件)
  • 2007 事後評価書 ( PDF )   終了報告書 ( PDF )

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JSTプロジェクトデータベース掲載開始日: 2016-04-26   JSTプロジェクトデータベース最終更新日: 2025-03-26  

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