高分子エレクトロニクスデバイスへ向けた薄膜パターンの無溶媒形成技術

研究課題

研究代表者	臼井博明東京農工大学, 大学院共生科学技術研究院, 助教授
研究期間 (年度)	2007
概要	高分子デバイスの開発には高分子薄膜の微細パターンを形成する必要があるが、フォトリソグラフの手法を適用することは困難である。そこでモノマーの物理蒸着と光照射による重合を組み合わせ、高分子薄膜パターンを無溶媒で形成する、新規真空ドライプロセスを開発する。すなわち機能性モノマーを光重合開始剤と組み合わせて蒸着し、光照射部分のみに選択的に高分子薄膜を成長させ、真空中ワンバッチで製膜及びパターン化を行う。