抵抗検出型核磁気共鳴による電子スピン偏極測定法の開発
研究代表者 |
川村 稔 東京大学, 生産技術研究所, 特任助教
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| 研究期間 (年度) |
2008 – 2011
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| 概要 | 本研究では、従来とは異なる新しい核磁気共鳴法を用いて、これまで計測することができなかった界面の電子スピンを選択的に計測します。さらに、この核磁気共鳴法と走査型プローブを組み合わせることで、サブミクロンの空間分解能を有する走査型NMR顕微鏡を開発します。半導体界面の電子スピン偏極率および緩和時間の空間分布を測定し、スピン自由度に関連する界面特有の物理現象のメカニズム解明を目指します。
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| 研究領域 | 界面の構造と制御 |
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