| 体系的番号 |
JPMJSN08C5 |
| DOI |
https://doi.org/10.52926/JPMJSN08C5 |
| 企業責任者 |
日本電子(株)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2008 – 2010
|
| 概要 | コンタミネーションの影響を最小限におさえるために、「サンプル周りの環境を超高真空化するためのシステムの開発」、「空間分解能の向上を目的として、励起用一次イオン光学系に収差補正技術を応用することによってイオンプローブの微細化」、および「質量分析系とレーザー光学系を含めた部分の改良」の3項目を開発課題とし実用化を達成します。本装置は貴重な宇宙試料を世界に類のみない高精度分析可能とするのみならず、半導体等のnm 領域の超微量不純物分析にも応用できます。
|
|---|
