星形イオウポリマーによる高屈折率フォトレジスト材料の開発

研究課題

研究代表者	平田充弘山形県工業技術センター, 生活技術部, 研究員
研究期間 (年度)	2009
概要	本試験では、ポリマー鎖末端に光硬化性基を有する分子量分布1.20以下の星形ポリチオエーテルを用い、精密光架橋反応による高感度フォトレジスト材料の開発を目的とする。具体的には、架橋剤に含イオウ化合物を使用し高屈折率化および基板との高接着性を図る。①架橋剤の種類・割合などに対する架橋効率が向上する系の模索、②基板への金属表面処理による剥離強度が向上する系の模索、③EB硬化による高精細パターンの達成を試みる。