反応性プラズマ溶射法を用いたSi系粉末からの透明石英膜の合成

研究課題

研究代表者	崎山智司山口大学, 大学院理工学研究科, 准教授
研究期間 (年度)	2009
概要	これまで申請者らは、強制伸張型プラズマジェット発生器を基礎とした新しいプロセシング装置を開発し、ダイヤモンド合成や高効率遠赤外線放射体の作製など、熱プラズマ利用した新素材開発を行ってきた。本研究では、これまでの知見をもとに、直流プラズマジェット中にシリコン系の材料粉末を注入し、膜状の透明石英ガラスを合成する新しい反応性プラズマ溶射技術を確立することを目的とする。