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フォトリソグラフィー技術を指向した高分子表面のフルオロアルキル化法の開発

研究課題

産学が連携した研究開発成果の展開 研究成果展開事業 地域事業 地域イノベーション創出総合支援事業 シーズ発掘試験

研究代表者

矢島 知子  お茶の水女子大学, 大学院人間文化創成科学研究科, 助教

研究期間 (年度) 2009
概要デバイス製造におけるリソグラフィー技術の中で、インクジェット方式によるパターンの構築は簡便な方法として注目されている。そのパターン構築の微細化にはフッ素コートされた表面を削り取る方法が取られているが、望む表面への光処理による直接フッ素化が可能となれば、フッ素コート、型の作成、削取の工程が不要となり、極めて効率的である。そこで本課題では、高分子材料表面の光反応によるフルオロアルキル化の開発を行う。

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JSTプロジェクトデータベース掲載開始日: 2016-04-25   JSTプロジェクトデータベース最終更新日: 2023-03-29  

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