フォトリソグラフィー技術を指向した高分子表面のフルオロアルキル化法の開発

研究課題

研究代表者	矢島知子お茶の水女子大学, 大学院人間文化創成科学研究科, 助教
研究期間 (年度)	2009
概要	デバイス製造におけるリソグラフィー技術の中で、インクジェット方式によるパターンの構築は簡便な方法として注目されている。そのパターン構築の微細化にはフッ素コートされた表面を削り取る方法が取られているが、望む表面への光処理による直接フッ素化が可能となれば、フッ素コート、型の作成、削取の工程が不要となり、極めて効率的である。そこで本課題では、高分子材料表面の光反応によるフルオロアルキル化の開発を行う。