光励起緩和経路の精密設計に基づく高耐久性サンスクリーン用化合物の開発

研究課題

研究代表者	重光保博長崎県工業技術センター, 工業技術センター, 主任研究員
研究期間 (年度)	2009
概要	サンスクリーン(日焼け止め)に使用されているUV吸収化合物は、UV-A (280-320 nm:長期間暴露による慢性炎症)、UV-B(220-280 nm:直接的な皮膚損傷)、の両領域を効率よくカットし、耐久性にも優れていることが求められる。本研究では、量子化学理論計算に基づき、従来は考慮されてこなかった励起三重項状態間のエネルギー移動経路を最適化することで、光劣化速度を抑えた高耐久性サンスクリーン剤の開発を目指す。