広範囲平滑性を有する高平滑性疎水性基板調製法の確立
研究代表者 |
大石 祐司 佐賀大学, 理工学部, 教授
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研究期間 (年度) |
2009
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概要 | 高平滑性を持つ疎水性基板は、現在原子間力顕微鏡のサンプル固定台、界面研究においてニーズがあり、今後のタンパク質配置技術を応用したバイオセンサーや電子回路基板の構築おいて新分野を開拓する道具して重要である。しかし、高平滑性疎水性基板として通常使われる基板では1非常に高価である。2原子レベルで平滑な面が狭いという欠点があった。そこで原子レベルで広範囲な平滑面をもつ雲母の壁開面を化学的に処理する方法を用い“簡便”且つ“安価”に高平滑性を有する疎水性基板を調製する方法を確立する。
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