トップダウンプロセスの微細化に資するナノパターニングシステムの開発

研究課題

研究代表者	田中正剛名古屋工業大学, 工学部, 助教
研究期間 (年度)	2009
概要	近年、半導体基板は極微細な周期での表面加工が求められており、ナノ精度で被膜できるマスク材の開発が必要とされている。本課題では高分子薄膜のマスク材としての応用を考え、10ナノメートル以下の微細な超分子構造を形成するペプチドを構成要素とするジブロック共重合体を設計し、これらの固体表面への吸着とペプチド部位のβ-シート化に基づく簡便で低コスト化が可能な自己組織化によるナノ微細構造の調製法を検討する。