1. 前のページに戻る

応用プロセス用大口径・高密度・低アスペクト比化されたヘリコンプラズマ源の開発

研究課題

産学が連携した研究開発成果の展開 研究成果展開事業 地域事業 地域イノベーション創出総合支援事業 シーズ発掘試験

研究代表者

篠原 俊二郎  九州大学, 総合理工学研究院, 准教授

研究期間 (年度) 2009
概要LSI用のシリコンウエハ、液晶表示、太陽電池などの大型化のための半導体薄膜の形成やエッチングなどの産業応用およびプラズマロケット等には、15インチ以上の大口径・高密度のプラズマ源が不可欠である。特にヘリコンプラズマは高密度が容易に得られるため、次世代プラズマ源として注目を集めている。本研究では、直径40cmと74cmの世界最大級の大口径装置で、0.5以下の低アスペクト比でも1012cm-3以上の高密度ヘリコンプラズマを生成できるかという可能性に挑戦し、その特性を評価する。

URL: 

JSTプロジェクトデータベース掲載開始日: 2016-04-26   JSTプロジェクトデータベース最終更新日: 2025-03-26  

サービス概要 よくある質問 利用規約

Powered by NII jst