含硫黄シルセスキオキサン微粒子を基盤とした高屈折率透明樹脂の開発

研究課題

研究責任者	森秀晴山形大学, 大学院理工学研究科, 教授
研究期間 (年度)	2010 – 2011
概要	本研究では、次世代の情報記録、表示、伝送を担う光技術分野の基盤材料の開拓を目指し、高屈折率(屈折率1.7以上)を有する含硫黄シルセスキオキサン微粒子の開発と高屈折率透明性樹脂の作成を試みた。具体的には、化学構造の異なる様々な新規含硫黄シルセスキオキサン微粒子を合成し、その屈折率を検討した。その結果、屈折率1.673を達成する事ができた。本材料は3nm以下のナノサイズを保持しつつ、良好な溶解性、分散性、熱安定性、製膜性を示した。残念ながら、屈折率に関しては目標値には届かなかったが、従来の最高値(屈折率1.58-1.59)を大きく上回ることから、この方向で材料設計・開発を推進する事で、近い将来には目的とする高屈折率透明樹脂の開発が可能になると思われる。