ナノ光回路のフィルム化・移植・セルフアライン光結合プロセスの開発

研究課題

研究責任者	吉村徹三東京工科大学, コンピュータサイエンス学部, 教授
研究期間 (年度)	2010
概要	コンピュータ光配線の主流であるSi光導波路は波長1μm以下の光を伝搬できない。我々は850nmや可視の光にも通用する感光性Sol-Gel材料を用いたナノスケール光回路を開発した。今回、そのフィルム化・移植プロセスと自己組織化光波網 (SOLNET)形成を検討した。Si waferに厚さ100nmのAlはく離層を蒸着、その上にコア幅1μmの光導波路を形成した後、 Alエッチャント/純水/アセトンの順で処理した。その結果Al層が除去でき、光導波路とwaferの分離に成功した。Wafer全体にわたる完全分離は不達成で、伝搬ロス評価とともに今後の課題となった。クリスタルバイオレットで色素増感したフォトポリマを用い、ナノスケール光回路からのSOLNET形成に成功した。光ファイバとの結合効率評価は今後の課題として残った。