刺激応答性イオン液体ゲルを用いたナノインプリント用レジストの開発
研究責任者 |
横山 義之 富山県工業技術センター, その他部局等, 研究員
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研究期間 (年度) |
2010
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概要 | 本研究では、熱ナノインプリント法を用いてナノオーダーの微細パターンを形成でき、長期の乾燥・真空下でも任意の箇所の微細パターンを可逆的に変形できる温度応答性高分子「バイオレジスト」の開発を行った。その結果、熱ナノインプリント法で微細パターニングできる2種類の温度応答性高分子を合成し、50nm~30μmの微細パターンを転写することができた。さらに、狙った箇所の微細パターンを可逆的に変形させることができた。今後は、微細パターンの可逆的な変形を利用した応用技術(可変機能を有する光学素子やナノアクチュエーターなど)を開発し、本レジスト材料の企業へのPRに役立てていきたい。
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