研究代表者 |
多々良 源 首都大学東京, 理工学研究科, 准教授
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| 研究期間 (年度) |
2011 – 2013
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| 概要 | 本研究交流は、磁性ナノ細線中の電流誘起磁壁移動現象におけるスピン軌道相互作用を解析することにより、高効率な磁壁移動を実現することを目的とする。具体的には、磁性ナノワイヤ中に電流を流した際に発生するスピン移動トルクについて、日本側は非断熱スピン移行トルクに注目した理論的解析を担当し、英国側は電流誘起磁壁移動の実験的解析を担当する。両国の研究チームが相互補完的に取り組むことで、電流誘起磁化反転の省電力化と高速化が実現し、現在のメモリが持つ問題点を解決した大容量不揮発メモリの実用化が期待される。
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| 研究領域 | システムバイオロジー |
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