大気圧ドライプロセスによる汎用合成樹脂材料表面への高密度アミノ基導入

研究課題

研究責任者	杉村博之京都大学, 大学院工学研究科, 教授
研究期間 (年度)	2011
概要	シクロオレフィン樹脂(COP)基板に、大気圧下で波長 172nm の真空紫外光を照射し、アミノシラン固定化サイトとなる水酸基を、表面光酸化により形成するステップと、大気圧下で 3-aminopropyltrimethoxy-silane(APS)蒸気に基板を接触させるステップからなる、アミノ化大気圧ドライプロセスを開発した。反応温度 70°Cで、表面窒素濃度 7%の APS 被覆が得られた。この値は、平滑な石英ガラス基板上に APS 単分子膜被覆をした場合の2倍強の値である。高密度で、APS がCOP 上に固定化されたことを示している。60-70°Cという比較的低温での被覆が可能であったことから、より耐熱性の低いオレフィン系ポリマーである、ポリエチレンやポリプロピレンへも対応できると考えられる。