| 研究責任者 |
水野 正敏 岐阜県セラミックス研究所, 未登録, 所長
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| 研究期間 (年度) |
2011
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| 概要 | 本研究では、これまで開発を行ってきた陶磁器製リサイクル食器とマイクロ波による焼成技術(選択加熱)を複合化し、低温焼成における釉の融解促進について検討した。その結果、マイクロ波を照射することでガス焼成の場合に比べて釉の融解状態を約20°C高い状態にすることに成功した。またマイクロ波の照射により焼成中における炉内上下の温度差が8°Cから3.3°Cに低減され、均質焼成に応用できる可能性を見出した。冷却過程において温度勾配を通常の冷却と逆転させることを試みたが、1150°C付近におけるSiC、コーディエライト、カーボン系材料のマイクロ波吸収の差が小さく、優位な温度勾配を実現することができなかった。
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