| 概要 | 高密度・大容量の情報記録が可能なビットパターン媒体(BPM)の実用化が急務である中、ここでの課題はプロセスの簡素化、狭小ビット作製能、表面平滑度、結晶ダメージ等である。本研究では薄膜を物理的にではなく磁気的にのみ孤立化させるBPM作製法を開発し、以下の成果を得た。 (1)プロセス:(1)微細加工マスクを用いた3原子層FePt成膜 /→(2)FePtRh反強磁性膜の成膜 /→(3)熱処理 【簡素化を達成】 (2)最小ドット径: 15 nm 【狭小ビットを達成】 (3)表面平滑度:Ra= 0.55nm 【平滑性を達成】 (4)結晶構造:全面L10構造 ・・・【結晶ダメージを解決】 (5)キャラクタリゼーション:位置分散3.7nm,保磁力3.6 kOe,保磁力分散55.6% 【要検討】 今後は実用化に向けて、ドット位置と保磁力の制御を重点的に行う。
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