固液界面反応設計による新規高純度シリコン材料創製プロセスの構築
| 体系的番号 |
JPMJCR11Q3 |
| DOI |
https://doi.org/10.52926/JPMJCR11Q3 |
研究代表者 |
本間 敬之 早稲田大学, 理工学術院, 教授
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| 研究期間 (年度) |
2011 – 2016
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| 概要 | 高純度Siの製造には長時間にわたる超高温反応を必要とし、生産面・コスト面の大きな課題となっています。本研究は、固相や液相などの界面で起こる電解反応系に着目し、その原子レベルからの解明と精密な反応設計を実現し、低エネルギーかつ高速に高純度Siを生成するクリーンなプロセスを開発します。また国内にも豊富に存在する珪藻土を原料とする新しい製造プロセスを開発し、高純度Siの安定供給という資源確保戦略にも貢献します。
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| 研究領域 | 太陽光を利用した独創的クリーンエネルギー生成技術の創出 |
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