ナノスケール構造制御による高性能磁石創製への指針獲得
| 体系的番号 |
JPMJSK1128 |
| DOI |
https://doi.org/10.52926/JPMJSK1128 |
| 研究責任者 |
加藤 宏朗 山形大学, 大学院理工学研究科, 教授
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| 研究期間 (年度) |
2011 – 2016
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| 概要 | 現在最強のネオジム焼結磁石は、産業・民生・医療機器等に広く用いられていますが、更なる高性能化や高耐熱性が求められています。本研究では、薄膜プロセスおよび強磁場プロセスを用いたナノスケールの構造制御によって、ネオジム磁石を上回り、レアメタルであるNdやDyの使用量を大幅に削減した最強の希土類磁石を創製するための指針を獲得します。更に、産学の対話のもと、高性能磁石の厚膜化やバルク化に取り組みます。
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| 研究領域 | 革新的次世代高性能磁石創製の指針構築 |
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