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(110)表面を有する圧縮歪みシリコン・ゲルマニウム(SiGe)薄膜の素子応用

研究課題

産学が連携した研究開発成果の展開 研究成果展開事業 研究成果最適展開支援プログラム(A-STEP) 探索タイプ

研究責任者 有元 圭介  山梨大学, 大学院医学工学総合研究部, 准教授
研究期間 (年度) 2011 – 2012
概要本研究では、低コストで製造でき、電子・正孔ともに高移動度が期待される『(110)表面を有する圧縮歪みSiGe薄膜デバイス』の実証実験を行った。そのために必要な要素技術である表面ラフネスの低減を実現し、結晶欠陥形成メカニズムの解明に取り組んだ。積層欠陥密度・界面準位密度の低減やGe組成の最適化を図り、電子・正孔の高移動度化を目指し、結晶成長条件の検討を行った。

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JSTプロジェクトデータベース掲載開始日: 2016-04-26   JSTプロジェクトデータベース最終更新日: 2025-03-26  

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