| 研究責任者 |
山田 和志 京都工芸繊維大学, 大学院工芸科学研究科, 助教
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| 研究期間 (年度) |
2011 – 2012
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| 概要 | 現在の極短波長レーザーを用いた光リソグラフィーなどによるナノ加工法が用いられているが、光の回折限界のために加工限界に近づいており、新たなレーザーナノ加工技術の提案が必要とされる。研究代表者らは、可視光レーザーと金ナノ粒子を用いて高分子超薄膜上へ直径30 nm以下のナノ加工に成功した。しかしながら、ポリマー薄膜上へのナノオーダーでの2次元配列までは至っておらず、任意のナノサイズを持った2次元状に一様に配列させたナノ孔基板を創製することが必要不可欠となる。そこで研究代表者は、ブロックポリマーを用いて基板上にナノサイズのミクロ相分離構造を形成させ、金ナノ粒子を2次元状に配列させ、その基板に対してレーザーアブレーション法を駆使した。その結果、2次元配列したナノホールを有するポリマー超薄膜の創製に成功した。
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