高導電酸化チタン薄膜形成技術の開発と多機能化に関する研究

研究課題

研究責任者	山内智茨城大学, 工学部生体分子機能工学科, 准教授
研究期間 (年度)	2012 – 2013
概要	有機金属化学気相堆積法によりNbとFをドーピングした酸化チタン薄膜の形成を実施した。制御パラメータとして、薄膜形成温度とNbとFのドーピング量に加えて有機原料ガスの分解過程制御のために用いる添加ガスを対象とした。その結果、還元性ガス(H2ガス)を添加することで7x10-2Ωcm程度まで低抵抗化することができた。更に、薄膜中で電気伝導を阻害する要因を極低温からの温度特性により調査し、その要因を改善するために薄膜形成後に金属イオンを含む溶液中での処理を行い、2x10-3Ωcmまでの低抵抗化を実現できた。また、可視光透過性では、H2ガスを用いることで、反射を考慮しない状態でも抵抗率2x10-3Ωcmで可視光透過率70%以上の薄膜形成が可能となった。