廃Siのリサイクルによる多結晶Si薄膜の電気化学的作製技術の開発

研究課題

研究責任者	友野和哲山口大学, 大学院理工学研究科, 助教
研究期間 (年度)	2012 – 2013
概要	Siインゴットの切断加工時に大量に排出される廃Si(歩留り:50%)を電気化学的手法により再利用するプロセスを開発するものである。廃Siから合成したブロモシランを用いて多結晶シリコン薄膜を電気化学的に作製するプロセスを提案する。本研究では、熱力学的に安定なテトラブロモシラン及び廃Si由来のブロモシラン混合物をSi原料にして、電気化学析出を行った。XPS分析から析出したSiは、約300nmまで酸化されていることがわかった。電析浴温度変化から、浴温度を変化させることで膜の平滑性が向上した。これは、クロロシランとは異なり液体であるブロモシランが電析浴内で気化せず溶解しているための結果と考えられる。