| 研究責任者 |
和田 雄二 東京工業大学, 大学院理工学研究科(工学系), 教授
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| 研究期間 (年度) |
2012 – 2013
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| 概要 | マイクロ波照射において金属あるいは金属化合物前駆体を含む反応溶液中の基板の迅速かつ選択的な局所加熱が起こり、その表面上に粒径の揃った無機化合物ナノ粒子を合成することが出来ることを示し、表面修飾技術あるいは薄膜形成技術として高い制御性を持つことを証明した。ポリイミド基板上において、銀析出化合物の粒子形状・薄膜形状や緻密度の制御を可能とする因子を明らかにし、基板上での無機化合物ナノ粒子の発生・成長機構を論じた。高温暴露に弱いプラスティック基板上に、低温で基板損傷なしで無機化合物ナノ薄膜形成する技術を開発した。ナノ薄膜構造の微細精密制御技術として、電子材料、医療材料製造プロセスへと広範囲な応用展開を得た。
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