1. 前のページに戻る

室温ナノインプリントによる高耐熱性光学素子の作製

研究課題

産学が連携した研究開発成果の展開 研究成果展開事業 研究成果最適展開支援プログラム(A-STEP) 探索タイプ

研究責任者 松井 真二  兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 教授
研究期間 (年度) 2012 – 2013
概要熱ナノインプリントと光(UV)ナノインプリントが通常使用されているが、加熱もUV照射も必要としない、プレスのみで高精度・高スループットが可能である、独自開発の室温ナノインプリントを利用して、高耐熱性ガラス光学素子作製研究を行った。PDMSモールドを用いて、液滴HSQの低圧室温ナノインプリントが可能であることを示し、モスアイ構造の作製・評価を行った。はしご型HSQを用いることにより、1000°C高温アニールのガラス化処理後でもアニール前の矩形性を維持し、パターン寸収縮変化差は見られなかった。さらに、HSQのヤング率が600°Cアニール処理を行うことにより、急激に10倍程度上昇することを確認した。本研究成果により、室温ナノインプリントにより、高耐熱性ガラス光学素子の作製が可能であることを実証した。

URL: 

JSTプロジェクトデータベース掲載開始日: 2016-04-26   JSTプロジェクトデータベース最終更新日: 2025-03-26  

サービス概要 よくある質問 利用規約

Powered by NII jst