| 研究責任者 |
大平 圭介 北陸先端科学技術大学院大学, グリーンデバイス研究センター, 准教授
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| 研究期間 (年度) |
2012 – 2013
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| 概要 | ミリ秒台の瞬間熱処理法であるフラッシュランプアニール(FLA)により、電子線(EB)蒸着により製膜した非晶質シリコン(a-Si)膜を結晶化することで、ガラス基板上に、膜厚2 μm以上、横方向に数10 μm延伸した大粒径結晶粒からなる多結晶シリコン(poly-Si)膜を得られる。このpoly-Si膜の亀裂抑止と欠陥低減について研究を行い、高圧水蒸気熱処理により、1016 /cm3台まで欠陥密度を低減できることを明らかにした。また、膜厚を変化させることにより、結晶化機構および結晶粒径が変化する現象を見出した。今後、亀裂抑止技術を確立することで、薄膜結晶Si太陽電池への応用につながると期待される。
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