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蓄電機能を有する金属酸化膜のプラズマプロセス技術の開発

研究課題

産学が連携した研究開発成果の展開 研究成果展開事業 研究成果最適展開支援プログラム(A-STEP) 探索タイプ

研究責任者 内野 喜一郎  九州大学, 総合理工学研究科(研究院), 教授
研究期間 (年度) 2012 – 2013
概要蓄電機能を有すると期待される2元金属酸化膜を、プラズマプロセスにより成膜する方法について開発研究を行った。そのような金属酸化膜には、フォトクロミック(PC)現象が現れることから、この現象を手がかりとして研究を進めた。まず、プラズマCVD法について検討した。超高周波(VHF)を用いたプラズマCVD装置を構築し、金属有機ガスからZnSiO薄膜を作製した。これにより得られたPCの領域は、数十mm2と基板の一部に限られた。プラズマCVDと比較するため、スパッタリング法とPLD(パルスレーザー堆積)法についても検討した。両方ともにPCの発現が確認されたが、スパッタリング法では堆積速度に難点があることがわかった。PLD法によれば、SnMgO薄膜において30mmサイズの基板全面でのPC発現と可視域での30%程度の光透過率を再現性良く得ることに成功した。

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JSTプロジェクトデータベース掲載開始日: 2016-04-26   JSTプロジェクトデータベース最終更新日: 2025-03-26  

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