デバイス製造プロセスのための反応機構自動解析システムの開発と評価

研究課題

研究責任者	高橋崇宏静岡大学, 工学部電気電子工学科, 助教
研究期間 (年度)	2012 – 2013
概要	化学気相成長法(CVD)を対象とした反応機構自動解析システムの開発を行った。自動解析の高速化を目指して、より優れた最適化アルゴリズムを探索し、システムへの実装を行い、解析能力の評価を行った結果、実数値遺伝的アルゴリズムの分野で複数の有望な候補を見出すことができた。さらに、解析アルゴリズムの見直しと、ベクトル演算および並列演算への対応によって、計算速度を向上することができた。また、解析対象となるプロセスを増加してシステムを汎用化する観点からCFDシミュレーターとの連携を目指した。CFDシミュレーターの計算過程をモデル化することで実用的な計算時間でCFDシミュレーターを利用した解析が可能となった。