| 研究責任者 |
水上 誠 山形大学, 大学院理工学研究科, 准教授
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| 研究期間 (年度) |
2012 – 2013
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| 概要 | 本研究は撥液基板上にガスカーテン方式レーザCVDにより親液層を形成し、続いて導電性ナノインクを塗布しレーザCVDパターンに沿ってインクを自己組織的にパターニングする高精細電極形成技術の開発を目的とした。基板の表面自由エネルギー、レーザCVDにより形成した親液層の表面自由エネルギー、導電性ナノインクの表面張力を適正化することで電極幅3μm、膜厚30nm、表面粗さRq:3.8nmの高精細Ag電極形成に成功した。本塗布技術によりマスクレスでインクジェットでは達成できていない微細配線が可能となる。この技術は有機トランジスタ、RFID等の高機能電子デバイスにおける電極配線技術として貢献が期待できる。
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