| 概要 | Si間にメチレン基を有するbis(triethoxysilyl)methane (BTESM)(tEO)3-Si-CH2-Si-(OEt)3用いて,ゾルゲル法によりアモルファスシリカネットワークを形成後,カチオンであるAlをドープすることで,ネットワークサイズの精密制御,C3H6分子との吸着親和性を制御したオルガノシリカ膜の開発について検討した。具体的には,(1)有機無機ハイブリッドアルコキシドを用いたシリカネットワークの制御,(2)各種気体透過特性,(3)C3H6/C3H8分離特性,吸着特性の評価を研究項目とした。Alをドープすることで,BTESM膜と比較してネットワークサイズが緻密になることが明らかになり,200°C焼成Al-BTESM(Si/Alモル比: 9/1)において,BTESM膜と比較してC3H6/C3H8透過率比が大きく向上し200°Cで35を示し,当初の研究開発目標を達成した。
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