分岐鎖をもつビスフェノール類を用いたフレキシブル基板用フォトレジスト樹脂の開発

研究課題

研究責任者	山崎博人宇部工業高等専門学校, 物質工学科, 教授
研究期間 (年度)	2013
概要	従来、フレキシブル配線基板のレジスト材として、アクリル系樹脂を成分としたドライフィルムレジストが広く使用されているが、この解像度は、30～300μm程度である。これに対し、半導体などのエッチング用レジスト材に用いられているノボラック樹脂の解像度は1～10μmと高いが、膜質が脆く、柔軟性に欠けるため、それをロール状製品とすることに難点がある。本研究で検討したフェノール成分にビスフェノールAとビスフェノールPからなる混合物を、架橋剤にグルタルアルデヒドを用いて合成されたノボラック樹脂は、実用域に到達する柔軟性を有していたが、露光時に光を透過せず、描画が困難であった。今後、現像液への溶解性の向上を目指した検討を行う必要がある。