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基板表面改質による液滴の自己輸送・自己アライメント技術の開発

研究課題

産学が連携した研究開発成果の展開 研究成果展開事業 研究成果最適展開支援プログラム(A-STEP) 探索タイプ

研究責任者 戸倉 和  東京工業大学, 大学院理工学研究科(工学系), 教授
研究期間 (年度) 2013
概要レーザによる局所表面改質を利用した基板表面での液滴の制御技術の開発を目標とし開発を行った.表面改質の基礎的な検討とし,二種類の波長のレーザを利用し,ガラス基板およびシリコン基板表面の濡れ性の局所改質を確認した.また,短波長レーザを利用することで100ミクロン以下の線幅での改質を実現し,純水の自己輸送・アライメントへと適用した.本技術は,市販のレーザマーカを利用しており,医療,半導体分野等への広い応用先を有し,導入コストの面からも汎用性の高い技術であり,本課題においては基礎検討を終えた段階である.今後,企業等との共同研究を視野に,具体的な応用先に向けた純水以外の制御対象での検討および自己輸送・アライメントの実現へと展開する.

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JSTプロジェクトデータベース掲載開始日: 2016-04-26   JSTプロジェクトデータベース最終更新日: 2025-03-26  

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