1. 前のページに戻る

最密充填構造を模倣した廃Siからの3次元マクロ多孔質-Si構造体の創製

研究課題

産学が連携した研究開発成果の展開 研究成果展開事業 研究成果最適展開支援プログラム(A-STEP) 探索タイプ

研究責任者 友野 和哲  宇部工業高等専門学校, 物質工学科, 助教
研究期間 (年度) 2013
概要Siインゴットの切断加工時に大量の廃棄物シリコンが排出される。本研究では,廃シリコンから合成できるブロモシランを用いて,電気化学的手法により3次元マクロ多孔質Si構造体を作製することを目標とした。細孔サイズが異なる数種類の3次元マクロ多孔質Si構造体の作製条件を明らかにした。結果,廃シリコンから抽出したブロモシランを電気化学的手法により,ナノ構造(や光学材料としての応用)を付与する自由度が高いことが分かった。今後,光学分析と細孔サイズの相関性を明らかにし,マクロ多孔質構造の最適化を進める。

URL: 

JSTプロジェクトデータベース掲載開始日: 2016-04-26   JSTプロジェクトデータベース最終更新日: 2025-03-26  

サービス概要 よくある質問 利用規約

Powered by NII jst