二次元原子薄膜の積層システムの創製とナノエレクトロニクスへの展開

研究課題

体系的番号	JPMJPR1322
DOI	https://doi.org/10.52926/JPMJPR1322
研究代表者	吾郷浩樹九州大学, 先導物質化学研究所, 准教授
研究期間 (年度)	2013 – 2016
概要	多様な原子薄膜からなる積層システムを気相成長法(CVD法)により連続合成、あるいは多重転写を行うことにより、世の中に存在しない人工的な原子積層材料を創出するとともに、層間へのインターカレーションや自己組織化膜との融合を通じて、新たな電気・光機能性を創出し、フレキシブルで省電力な次世代ナノエレクトロニクス材料へと展開していきます。
研究領域	素材・デバイス・システム融合による革新的ナノエレクトロニクスの創成

報告書

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