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超高速・超低消費電力LSI向けナノ界面制御超低抵抗率Cu配線技術の確立
研究課題
産学が連携した研究開発成果の展開
研究成果展開事業
研究成果最適展開支援プログラム(A-STEP)
シーズ育成タイプ
企業責任者
ティーイーアイソリューションズ株式会社
研究責任者
大貫 仁
茨城大学, 工学部, 教授
研究期間 (年度)
2014 – (非公開)