コヒーレントX線を用いた摩擦界面ダイナミクス評価手法の確立
| 体系的番号 |
JPMJPR14KD |
| DOI |
https://doi.org/10.52926/JPMJPR14KD |
研究代表者 |
星野 大樹 独立行政法人理化学研究所, 放射光科学総合研究センター, 研究員
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| 研究期間 (年度) |
2014 – 2017
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| 概要 | 本研究では、摩擦界面での分子スケールダイナミクスをコヒーレントX線によるダイナミクス測定手法によって明らかにし、特に高分子ブラシ界面を扱い、拘束条件下での高分子のダイナミクスを測定対象とします。ダイナミクス測定には、X線自由電子レーザーSACLAおよびSPring-8のコヒーレントX線を利用した手法を駆使し、近接表面間で発現する高分子ブラシの緩和現象を時空間スケール依存で測定し、摩擦機構の解明を目指します。
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| 研究領域 | 分子技術と新機能創出 |
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