粒径50 nm以下で均一なラテックスのクリーン合成プロセスの開発 および規則的ナノ構造材料への応用
| 研究責任者 |
石井 治之 東北大学, 工学研究科, 助教
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2014 – 2015
|
| 概要 | 粒子径50 nm以下で、粒径均一性の高いラテックスの新規合成法を確立した。スチレン(St)とメタクリル酸メチル(MMA)の乳化共重合系を適用し、界面活性剤濃度は既往の乳化重合系に比べ1/10以下で行った。CMCが低い界面活性剤を用いたとき、その濃度が1 mM 以下とごく微量の条件で粒径50 nm以下の単分散ラテックスの合成に成功した（原料モノマー濃度 約3 wt%）。原料モノマー濃度が高い条件においてもまた、小粒径な単分散ラテックスの合成に成功した。合成したラテックスは、自己組織化により周期的で規則的な粒子配列体を形成し、また従来技術では作製が困難な３次元構造を有するナノ構造材料の鋳型として有用であった。
|
|---|
