研究代表者 |
町田 友樹 東京大学, 生産技術研究所, 准教授
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| 研究期間 (年度) |
2015 – 2020
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| 概要 | グラフェンおよび六方晶窒化ホウ素などの二次元結晶はメカニカル劈開法により単原子層まで薄層化が可能です。二次元結晶を高効率・高品質に積層して、原子層をデジタル的に組み合わせるファンデルワールス超格子の作製技術基盤を確立します。量子カスケードレーザをはじめとした、ファンデルワールス超格子による光機能素子の実現に向けた研究を推進します。
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| 研究領域 | 二次元機能性原子・分子薄膜の創製と利用に資する基盤技術の創出 |
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