電場印加触媒反応系中の半導体・絶縁体界面でのメタンの活性化とそれに続く化学品原料の選択合成

研究課題

体系的番号	JPMJPR16S2
DOI	https://doi.org/10.52926/JPMJPR16S2
研究代表者	稲垣怜史横浜国立大学, 大学院工学研究院, 准教授
研究期間 (年度)	2016 – 2019
概要	本研究では,電場印加下でのメタンの酸化カップリング(OCM)および類似の反応に活性を示す,電気絶縁性の新たな多孔質固体触媒を探索し,その活性発現要因を検討します。これらの反応を実現するには,絶縁体の規則性多孔体と半導体粒子とのコア・シェル型触媒の設計が鍵となると考えており,ケミカル処理だけでなく,メカノケミカル処理を適用することで革新的な触媒材料の創製を試みます。
研究領域	革新的触媒の科学と創製

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