3次元構造への高速被膜技術の開発

研究課題

体系的番号	JPMJTM19C5
DOI	https://doi.org/10.52926/JPMJTM19C5
研究代表者	西中浩之京都工芸繊維大学, 電気電子工学系, 助教
研究期間 (年度)	2019 – 2020 (予定)
概要	本研究は、3次元構造に対して高い被覆性と高い形成速度を両立させる酸化物膜の形成手法を開発することを目的とする研究である。大気圧下で成膜可能な新規手法を用いて、高スループットかつ高い被覆性を実現できる技術を確立する。